2007年12月17至18日，正业电子徐总和梅总监出差华中科技大学，并和武汉光电国家实验室就“柔性电路板UV激光切割机制作”达成合作协议。

　　武汉光电国家实验室是科技部于2003年11月批准筹建的五个国家实验室之一，是国家科技创新体系的重要组成部分，也是“武汉·中国光谷”的创新研究基地，由教育部、湖北省和武汉市共建，其依托单位是华中科技大学。实验室实行理事会领导下的主任负责制，理事长由华中科技大学校长李培根院士担任，主任由叶朝辉院士担任。

　　多年来，该实验室着眼于解决国家光电子产业发展中的重大关键技术问题，为推动武汉国家光电子产业基地的建设和发展提供原创性、实用性科研成果，与正业提倡“以振兴民族工业为己任，提高国产科学仪器水平”的发展战略有异曲同工之妙。正业选择该实验室作为合作机构，又将为华南地区企业和高校实现“强强联合、优势互补”的产学研结合发展战略谱写新的篇章。

　　在签约仪式上，校方代表表示：在双方合作中，该实验室将充分调动全实验室教师科技创新的积极性和主动性，科研项目要面向正业发展倾斜，根据正业产业化需求的基础上开展科研攻关。

　　随后，正业徐地华总经理在讲话中表示：正业选择与武汉光电国家实验室喜结“良缘”，是天作之合。今后，正业将一如既往地鼓励、支持该实验室教师深入企业生产第一线，把该实验室科技前沿的理论成果、技术成果与正业的实际应用结合起来，紧密围绕国内外科技发展动态，把解决国产科学仪器技术难点作为双方科研方向和目标，为推动民族工业进一步发展、提升我国科学仪器国际竞争力提供强有力的科学和技术支撑。