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高性能覆铜板发展趋势及对环氧树脂性能的新需求

 更新日期: 2007-6-27 15:08:02  作者:     来源:


日本各厂家在2006年间和计划在2007年间手机主板制造的工艺路线及基板的主要技术指标

 

日本ビクター

松下电子部品

山梨松下电工

Meiko

大生产预定时间

2006

2007

2006

2007

2006

2006

2007

产品牌号

VIL

ALIVHG

ALIVH-C

ALIVHG

ALIVH-C

无特别牌号

M-VIA B

M-VIA

M-VIA

对应的CSP间距离

0.4 mm

0.5 mm

0.4 mm

0.4mm

0.3mm

0.4mm

0.5mm

0.4mm

0.3mm

孔径 / 连接盘

100μm/

220μm

90μm/

200μm

未公开

未公开

75μm/

200μm

60μm/

175μm

100μm/

250μm

100μm/

220μm

100μm/

220μm

75μm/

180μm

导线宽 / 导线间距

50μm/50μm

未公开

未公开

50μm/

50μm

35μm/

35μm

75μm/ 75μm(部分50μm/50μm

50μm/

50μm

50μm/

50μm

50μm/

50μm

板厚 / 层数

0.6mm /

8

0.55mm / 8

未公开

未公开

0.55mm /

8

0.5mm /

8

0. 5mm-0.6mm /8

0. 63mm /8

0.50mm /8

0.50mm / 8

 

基板材料

环氧-玻纤布基,或ALIVH基板

环氧-玻纤布基

芯层采用

ALIVH-C

 

环氧-玻纤布基

芯层采用

ALIVH-C

环氧-玻纤布基

环氧-玻纤布基

 

 

 

绝缘层厚度

80μm

60μm

未公开

未公开

 

R-via60μm

60μm-80μm

导通孔形成法

激光 + Cu膏(ALIVH

/ 钻孔+ Cu电镀、Cu

激光 + Cu

激光 + Cu

R-via:激光+ Cu电镀

凸快+ Ag

法层

基板材料

环氧树脂

环氧-玻纤布基

环氧-玻纤布基

环氧-玻纤布基

FR-4FR-5BT树脂

绝缘层厚度

40μm 80μm

未公开

未公开

40μm

40μm60μm

积层法层层数

3

未公开

未公开

3

2

 3

3

导通孔形成法

激光 + Cu电镀

激光 +

Cu

激光 + Cu电镀

激光 +

Cu

激光 + Cu电镀

激光 + Cu电镀

激光 + Cu电镀

通孔电阻

1 mΩ— 2 mΩ

mΩ—十几mΩ

未公开

未公开

BU0.2 mΩ

0.2mΩ

0.2mΩ

电路层形成法

减成法 / 半加成法

减成法

减成法等

减成法

减成法

减成法

减成法

减成法

电路层厚度

20μm

15μm 25μm

未公开

未公开

BU20μm

20μm-30μm

20μm-30μm

资料来源:NIKKEI ELECTRONICS.2006.


2.3  当前对应HDI多层板技术进步的基板材料及所用环氧树脂的重点发展课题

从上述移动电话用HDI多层板技术发展现状和未来预测,可看出:HDI多层板技术发展在未来几年内的发展重点是:导电电路宽度 / 间距更加微细化、导通孔更加微小化、基板的绝缘层更加薄型化。这一发展趋势,给基板材料制造业提出了以下两大方面的重要课题: 

其一,如何在HDI多层板的窄间距、微孔化不断深入发展的情况下,保证它的基板绝缘可靠性、通孔可靠性。

其二,如何实现高性能CCL的更加薄型化

第一方面课题,是归结为基板材料的可靠性问题。它是由CCL的基本性能(包括耐热性、耐离子迁移性、耐湿性、耐TCP性、介电性等)与基板加工性(微孔加工性、电镀加工性)两方面性能的综合体现。而所提及的CCL各方面具体性能都是与CCL用树脂性能相关。

所谓与树脂的相关性,应理解、认识为从树脂方面应达到三个层的要求:

    要实现对树脂所需的性能指标;

    要在一些条件变化下确保这些性能的稳定;

    要有与其它高性能树脂的共存性好(即互溶性、或反应性、或聚合物合金性好)。

打个比方,像一个人才,不但需要他本身的素质高、水平高和工作能力强,而且这种素质、水平、能力能够在许多环境变化之下(如恶劣的条件下)也能保持和发挥。他还需要有“团队精神”,在团队中能与其它精英们合作得很成功。高性能环氧树脂需要这三方面都具备的环氧树脂来做性能上的支持和保证。

HDI多层板在现今发展,对基板材料的诸项性能要求中,基板的薄型化是近年最热门的课题。在HDI多层板实现薄型化中,对它所用的基板材料性能有着更高的依赖性。应该看到,CCL的薄型化制造技术,近年在日本、台湾等有了突破性的进展。未来在许多PCB的应用领域中,薄型化基板材料产品有着很大的市场潜力。

2在实现CCL薄型化中对其所用的环氧树脂性能的要求

CCL薄型化技术主要是要解决板的刚性提高(便于工艺操作性,保证机械强度等)、翘曲变形减小的突出问题。薄型化CCL在工艺研发中,除了在半固化片加工工艺上需要有所改进、创新外,于树脂组成和增强材料技术也是十分关键的方面。日本著名环氧树脂专家广田晃辅(现从业于三井化学公司)近期在一篇环氧树脂发明专利中,总结CCL在实现薄型化的主要三条技术途径:

  ① 提高玻纤布的硬度。如采用S玻纤布、H玻纤布(特开2001-329080)。但这种更换玻纤增强材料的技术线路,会引起CCL制造成本的升高。

② 在树脂组成物中添加高刚性填料。但这样的工艺路线,制出的基板存在着钻孔加工时对钻头磨耗大、孔定位精度降低、孔壁粗糙度偏大的问题。因此,在此方面必须注重对填料的粒径的选择(如在特开2003-020407中有此方面的提案),或与低硬度的填料并用(如在特开2000-117733中有此方面的提案)。

③ 对环氧树脂进行改性,提高在CCL树脂组成物固化物的刚性,是一条解决薄型化CCL机械强度偏低的重要手段(三井化学公司的特开 2005-163014、特开 2005-154739专利,就是此方面发明、研究的内容)。

在薄型化CCL开发中,需要所用环氧树脂主要有如下几方面的贡献:

1)通过环氧树脂的改性,提高基板的刚性,即CCL的弹性模量的提高。2005年下半年松下电工公司开始推向市场只有40μm厚的无卤化高Tg环氧-玻纤布基CCL(牌号为R-1515B)。由于在这种极薄CCL的树脂组成物中对环氧树脂进行了改性的创新,使得这种薄板的关键性能项目——弯曲模量值高于一般FR4CCL1.3,特别在是250℃下高于一般FR4CCL3倍。由于有这一特性,使得二次高温回流焊接过程中基板的翘曲度和变形有明显的减少。

2)薄型化CCL的绝缘可靠性更加突出的重要。因此需求所用环氧树脂及酚醛树脂(作为固化剂)都具有更高的介电性能,更好的耐湿性。近年,在此方面的日本不少环氧树脂生产厂的发明专利有所增多。主要表现在:① 提高环氧树脂组成物的介电性、耐湿性。(特开 2006-36971、)。② 降低环氧树脂的无机氯、有机氯含量(特开 2005-314512)。③为提高环氧树脂固化物的介电性能,提高酚醛树脂固化剂性能,降低它的酚性羟基含量(特开2004-339277、特开2002-356544、特开2006-063256)。

3)薄型化CCL的半固化片加工是生产工艺中需要解决的重要问题。薄型化CCL树脂需要在多项性能上获得提高,因此在环氧树脂组成物中多种担当提高不同性能任务的树脂,需要很好的共混、融合。这样,环氧树脂组成物中的环氧树脂、固化剂树脂都需要提高它的相溶性、存储稳定性。日本有些环氧树脂生产厂近年在此的开展研究的专利成果也是较多篇的发表。如大日本邮墨公司的有关酚醛型环氧树脂如何解决相溶性差的问题(特开2006-63256、特开2006-002071);三井化学公司的有关提高环氧树脂与酚醛树脂固化剂之间的相溶性,提高其树脂组成物存储稳定性的问题(特开2004-323718、特开2005-154719)等。

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